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化学镀金 化学沉金 ENPLATE LDS Au 301 ENPL

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详细说明

    金属表面处理剂AU-602CF(化学镀金工艺)

【简介】

AU-602CF工艺是化学方法沉积一层金,主要用钯、镍表面;化学镀金槽液绝不含氰化物。此工艺主要用于半导体,线路板和电子电镀工艺。

【所需产品】

AU-602 25L/桶

KAU(CN)2

【设备】

处理槽:PTFE PPN(能承受100度。

挂具:塑胶压膜的铁件, 不锈钢。

搅拌:需要

加热器:石英,聚四氟乙烯漆, 不锈钢。

循环:5-10times/HOURS 0.5um滤芯

【操作参数】

范围 *佳

AU-602 ml/L 75 〜125 100

KAU(CN)2 g/L 1.0-2.0 1.5

Au g/L 0.8-1.2 1.0

温度 °C 70-90 80

PH 4.5-5.0 4.5

时间 Min 5-15 (depending on deposition rate and NiP-layer)

沉积速率 0.06um/10MIN

搅拌 机械搅拌

【使用说明】

1、在槽中注入约3/4体积的水,加热至50°C ;

2、不断搅拌,慢慢加入所需量的U-602 Concentrate CF,然后再慢慢加入所需量AU-602 Solution CF;

3、加水至所需体积,加热至操作温度,即可使用。

【槽液维护】

补充1克金,补充AU-602 20 ml ;用氨水和柠檬酸来调节PH值。

【分析控制】

AA仪器

【废水处理】

完全不含有氰化物和特殊的螯合剂,废水处理容易;

【特别声明】

此说明书内所有提议或建议,是以本公司信赖的实验及资料为基础。因不能控制其他从业者的实际操作,故本公司不能保证及负责任何不良后果。此说明书内的所有资料也不能用为侵犯版权的证据。

 
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